12月19至22日，由国际等离子体注入和沉积委员会发起、由中国科学院深圳先进技术研究院、北京大学和西南交通大学共同承办的第十五届等离子体离子注入与沉积国际会议在深圳召开。中心张世宏教授受邀参加会议并在会上作题为“International Standardization on PVD Coatings”的特邀报告。

   离子体基离子注入和沉积国际会议具有悠久的历史，每两年举办一届，自1993年在美国召开第一届会议以来，迄今已成功举办了15届。会议涉及相关交叉学科，包括等离子体物理、离子与材料表面的相互作用及在材料表面改性相关领域的应用等，会议旨在为各国科研人员提供讨论等离子体离子注入和沉积技术最新研究进展的交流平台。